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      北京市海淀區知春路27號量子芯座

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      2017 年中國平坦化技術大會暨海峽兩岸平坦化技術論壇 (2017 年 5 月 21-23日) 會議通知(第三輪)

      2017 年中國平坦化技術大會暨海峽兩岸平坦化技術論壇 (2017 年 5 月 21-23日) 會議通知(第三輪)

      來源:
      2017/05/11
      瀏覽量

        海峽兩岸平坦化技術研討會旨在促進兩岸平坦化技術交流,深化學界和業界的合作,提高兩岸平坦化技術水平,自 2012 年至今已舉辦5 屆。2017 年海峽兩岸平坦化技術論壇將于 5 月 21~23 日在大連理工大學召開。本次研討會將邀請海峽兩岸與平坦化技術相關的企業、高校和研究所機構參加,就平坦化技術的發展現狀與趨勢進行學術交流,共同提高平坦化技術的研究水平和技術水平,促進相關產業發展。大會將是平坦技術領域學界和業界合作交流的盛會,歡迎學術界和產業界同仁廣泛參與。

      時間:2017 年 5 月 21~23 日。

      地點:大連理工大學國際會議中心

      議題:平坦化技術最新成果與進展,包括;

        l 平坦化/拋光技術機理;

        l CMP 過程建模、模擬和優化;

        l 硬脆材料的平坦化/拋光工藝技術;

        l CMP 測量技術;

        l CMP 工藝用關鍵材料與零部件;

        l CMP 后清洗與缺陷抑制工藝;

        l CMP 工藝集成與控制技術;

        l 產業發展對 CMP 技術的新需求;

        l 平坦化/拋光新原理與新技術;

      主辦單位:平坦化技術聯盟(CMPUG-CN),微納制造摩擦學專業委員會

      承辦單位:大連理工大學

      贊助單位:奧林巴斯(中國)有限公司(Gold)、3M sicence(Gold)、河北工業大(Gold)、天津華海清科機電科技有限公司(Gold)、北京特思迪設備制造有限公司(Silver)、時代立夫(Silver)

      邀請報告單位:會議將邀請大連理工大學、淡江大學、福建晶安光電、國防科技大學、河北工業大 學、華僑大學、Intel、嘉柏微電子材料公、Linx consulting、南京航空航天大學、勤 益科技大學、清華大學、臺灣大學、臺灣科技大學、西南交通大學等單位的學者作邀請報告。

      組織委員會主席:路新春(清華大學)

      副主席:屈新萍(復旦大學)、陳炤彰教授(臺灣科技大學)、劉玉嶺(河北工業大學)

      委 員:王雨春(安集微電子)、張保國(河北工業大學)、葛軍(中芯國際)、楊濤(中科院微電子所)、柳 濱 (中電 45 所)、上官東愷(華進半導體)、劉衛麗(上海新安納)、康仁科(大連理工大學)、 雷 紅 (上海大學)、張莉娟(時代立夫)、王學澤(江豐電子)、周華(江豐精密)、張楷亮(天津理工大學)、潘國順(深圳力合)、王同慶(清華大學)、周平(大連理工大學)

      秘書長:周平(大連理工大學)

      秘書處:大連理工大學精密與特種加工教育部重點實驗室

      聯絡人:閆英,yycmp2017@163.com,手機:15140697605

          周平,pzhou@dlut.edu.cn,手機:13478754767

      注冊費:4 月 20 日以前返回會議回執并交納注冊費:1500 元/人,學生 800元/人。4 月 20 日以后注冊費上調至:1600 元/人,學生900 元/ 人。包括會場、餐飲、資料等費用。建議通 過 匯款方式繳納,現場提供發票(若現場繳納只能先提供收據,會后統一寄出發票)。

      匯款賬號:

      開戶名:大連理工大學 開戶銀行:中國建設銀行大連市欒金支行

      開戶賬號: 21201501910050000923 匯款時煩請務必注明“CMP+姓名”

      會議網址: http://conf.cnki.net/WebSite/index.aspx?conferenceID=d671d738-

       

       

      2448-40bd-86b2-dd661b08ba28

       

      ☆注: 由于 Intel 大連公司對參觀人員信息要提前審核,5 月 1 日之前未向會務組發送回執的參會人員不安排 23 日下午的參觀行程。

       

       

      2017 年中國平坦化技術大會暨海峽兩岸平坦化技術論壇會議日程

       

       

      日期

      時間

      內 容

      主持人

       

       

       

       

      5  21

      8:00-22:00

      注冊

      會務組

       

       

       

       

       

      8:15-8:45

      開幕式:領導致辭

      康仁科

       

       

       

       

       

      8:45-9:00

      合影

       

       

       

       

       

       

      9:00-9:25

      報告人:陳炤彰(臺灣科技大學)

      路新春

       

       

      報告題目:待定(特邀報告)

       

       

       

       

       

       

      9:25-9:50

      報告人:劉玉嶺(河北工業大學)

       

       

       

      報告題目:化學機械超精密加工質量傳速理論分析研究(特邀報告)

       

       

       

       

       

       

      9:50-10:15

      報告人:段定夫(Linx Consulting):

       

       

       

      報告題目:Technology trend and industry development in CMP materials supply chain(特邀報告)

       

       

       

       

       

      5  22

      10:15-10:25

      茶 歇

       

       

       

       

       

      上午

      10:25:10:50

      報告人:王科(Intel

      陳炤彰

       

       

      報告題目:CMP New Challenges in 3D NAND Era (特邀報告)

       

       

       

       

       

       

      10:50:11:15

      報告人:蔡明義(勤益科技大學)

       

       

       

      報告題目:崁入式鑽石研磨拋光盤開發研究(特邀報告)

       

       

       

       

       

       

      11:15-11:30

      報告人:潘繼生、閻秋生(廣東工業大學)

      朱永偉

       

       

      報告題目:新型動態磁場磁流變效應平面拋光技術研究

       

       

       

       

       

       

      11:30-11:45

      報告人:王桂河3M 中國有限公司

       

       

       

      報告題目:新一代復合剛性過濾器用于 CMP Slurry 過濾

       

       

       

       

       

       

      11:45-12:00

      報告人:王彥(河北工業大學)

       

       

       

      報告題目:弱堿性銅拋光液中甘氨酸與 BTA 的協同作用對平坦化的影響

       

       

       

       

       

       

      12:00-13:30

      午餐、休息

       

       

       

       

       

       

      13:30-13:55

      報告人:徐西鵬(華僑大學)

      張保國

       

       

      報告題目:單晶碳化硅襯底的固結磨料磨拋加工技術(特邀報告)

       

       

       

       

       

       

      13:55-14:20

      報告人:錢林茂(西南交通大學)

       

       

       

      報告題目:單晶硅原子級材料去除的機理及控制研究(特邀報告)

       

       

       

       

       

      5  22

      14:20-14:45

      報告人:趙德文(清華大學)

       

       

      報告題目:12 英寸晶圓平坦化機理研究與工業應用(特邀報告)

       

      下午

       

       

       

       

       

       

       

      14:45-15:10

      報告人:吳國?。伟匚㈦娮硬牧瞎荆?/span>

       

       

       

      報告題目:待定(特邀報告)

       

       

       

       

       

       

      15:10-15:35

      報告人:周平(大連理工大學)

       

       

       

      報告題目:CMP 過程量化分析的關鍵問題研究(特邀報告)

       

       

       

       

       

       

      15:35-15:45

      茶 歇

       

       

       

       

       

       

      15:45-16:00

      報告人:溫家林(清華大學)

      錢林茂

       

       

       

       

       

       

       

      報告題目:基于 ReaxFF 化學反應分子動力學的硅化學機械拋

       

       

       

      光過程中材料去除機理研究

       

       

       

       

       

       

      16:00-16:15

      報告人:田勝駿(河北工業大學)

       

       

       

      報告題目:基于弱堿性拋光液銅化學機械平坦化一致性的研究

       

       

       

       

       

       

      16:15-16:30

      報告人:趙欣(河北工業大學)

       

       

       

      報告題目:不同拋光參數對藍寶石襯底 CMP 的影響

       

       

       

       

       

       

      16:30-16:45

      報告人:程潔(清華大學)

       

       

       

      報告題目:不同緩蝕劑對銅釕電偶腐蝕的抑制作用

       

       

       

       

       

       

      17:00-17:40

      實驗室參觀

       

       

       

       

       

       

      18:00-20:00

                                  歡迎晚宴

       

       

       

       

       

      5  23

      8:30-8:55

      報告人:謝斌暉(福建晶安光電)

      徐西鵬

      上午

       

      報告題目:藍寶石襯底抗高溫強酸蝕刻加工技術(特邀報告)

       

       

       

       

       

       

      8:55-9:20

      報告人:廖運炫(臺灣大學)

       

       

       

      報告題目:超聲振動應用于藍寶石研磨之研究(特邀報告)

       

       

       

       

       

       

      9:20-9:45

      報告人:彭小強(國防科技大學)

       

       

       

      題目:強光元件離子束拋光低缺陷表面制造技術研究(特邀報告)

       

       

       

       

       

       

      9:45-10:10

      報告人:趙崇禮(淡江大學)

       

       

       

      報告題目:Study on Surface Integrity of Precision Ground Single

       

       

       

      Crystal Silicon (精密研磨單晶硅之表面完整性研究)(特邀報告)

       

       

       

       

       

       

      10:10-10:35

      報告人:朱永偉(南京航空航天大學):

       

       

       

      報告題目:石英玻璃研磨過程中的亞表面損傷(特邀報告)

       

       

       

       

       

       

      10:35-10:45

      茶 歇

       

       

       

       

       

       

      10:45:11:00

      報告人:柳鵬飛(天津大學)

      雷紅

       

       

      報告題目:A Novel Research about Fluid Hydrodynamic Fixed Abrasive Grinding based on Small Tool

       

       

       

       

       

       

      11:00:11:15

      報告人:楊師(中國電子科技集團公司第四十五研究所)

       

       

       

      報告題目:化學機械拋光技術研究

       

       

       

       

       

       

      11:15-11:30

      報告人:潘國峰(河北工業大學)

       

       

       

      報告題目:非離子表面活性劑對阻擋層 CMP CoCu 電偶腐蝕的影響

       

       

       

       

       

       

      11:30-11:45

      報告人:霍瑞芳(天津理工大學)

       

       

       

      報告題目:相變材料 Cr-ST 的化學機械拋光液的優化研究

       

       

       

       

       

       

      11:45-12:00

      報告人:楊柳(河北工業大學)

       

       

       

      報告題目:新型堿性清洗液對 CMP 后殘留 SiO2 顆粒的去除

       

       

       

       

       

       

      12:00-13:00

      午餐、休息

       

       

       

       

       

      5  23

      13:05 出發

      Intel 大連公司參觀 (廠區&文化)

       

      下午

      17:00 之前

       

       

       

      回到市區

       

       

       

       

       

       

       

      ☆注: 由于 Intel 大連公司對參觀人員信息要提前審核,5 月 1 日之前未向會務組發送回執的參會人員不安排 23 日下午的參觀行程。

       

      交通信息:

        本次會議地點安排在大連理工大學國際會議中心,位于大連理工大學南門,距離大連周水子國際機場約 12 公里,乘坐出租車需 25 分鐘,費用:約 35 元左右(白天),約 45 元左右(22:00 以后)。

        由于恰逢旅游旺季,房源緊張,本次會議的住宿安排在大連理工大學國際會議中心和大連奧利加爾大酒店,在 5 月 22 日和 23 日早上會務組將安排車輛將入住奧利加爾的各位代表接到會場。大連奧利加爾大酒店位于市中心繁華的中山路中段,距離國際會議中心 8 公里,乘坐出租車需 20 分鐘,費用:約 22 元左右(白天),約 29 元左右(22:00 以后),距離大連周水子國際機場約 12 公里,乘坐出租車需 25 分鐘,費用:約 35 元左右(白天),約 45 元左右(22:00 以后)。

       

       

      會務組提供交通信息:

      5 月 22 日上午 7:15,奧利加爾大酒店?大連理工大學國際會議中心

      5 月 22 日晚上 8:15,大連理工大學國際會議中心?奧利加爾大酒店

      5 月 23 日上午 7:40,奧利加爾大酒店?大連理工大學國際會議中心

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