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      TSMC與ITRI 開發出顆粒監測系統以提高產量

      TSMC與ITRI 開發出顆粒監測系統以提高產量

      來源:
      2016/01/06
      瀏覽量

      臺北 — 臺灣工業技術研究院(ITRI)和臺積電(TSMC)已經開發出一種新系統,可以監測芯片制造過程中液體里可能導致缺陷的顆粒。

      這個系統被命名為SuperSizer,可以測量尺寸從3nm1,000nm的顆粒,擴展了目前監測和檢驗工具的40nm上限。這個系統還可以測量顆粒濃度,幫助減少芯片底層和結構上的雜質和劃痕。

      TSMC已經在CMP過程中使用了SuperSizer系統,并證明此系統可以減少CMP中的缺陷率和劃痕,提高產量。

      ITRI納米與機械測量實驗室的研究負責人Wei-En Fu EE Times的采訪中說,“在過去的兩到三年,由于顆粒的原因,臺積電不得不關閉整個生產線兩到三天,隨著技術節點在明年或2017年下降到10納米,有害顆粒將小于10納米。這是唯一可以原位測量如此小顆粒的工具?!?/span>

      ITRITSMCSuperSizer的一部分:“霧化器模塊用于將溶液中的顆粒轉換為氣溶膠?!?/span>

      當只有少數芯片制造商在研發10nm制程時,ITRI表示SuperSizer可以在不那么先進的制程中監測大多數粒徑范圍的顆粒。

      Wei-En Fu說,“大多數芯片制造商希望監測30nm20nm以下粒徑的顆粒,”這個ITRI系統可以通過調節來監測這個范圍內的顆粒?!耙部梢栽谙鄬Φ偷臐舛认聹y量顆粒?!?/span>

      Wei-En Fu還表示,一個SuperSizer單元的價格根據所具備的功能類型來定,約為$730,000,如果只用于監測純水,價格約為$450,000。這個系統可以監測四種拋光液以及清洗用水。

      ITRI擁有這項技術及相關專利,可以接收訂單來生產這個系統,但研究機構計劃最終將許可權交給臺灣一家公司來進行量產。

      ITRI納米與機械測量實驗室有大約四個正在進行的項目與半導體產業相關,包括利用x光折射率測量膜厚、測量CMP中拋光墊表面粗糙度的儀器、利用EUV散射測量芯片的關鍵特性等。

      SuperSizer—超細顆粒分級系統

      ITRI是全球最大的政府資助技術研發機構之一,還擁有其他半導體產業相關的部門,如材料、光電子技術等。作為臺灣最大的芯片廠商,TSMCUMC是從ITRI起步的項目中分拆出來的。

      Alan Patterson負責EE Times的半導體產業報導,他目前在臺灣。

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